IB-19540CP截面抛光仪 IB-19550CCP冷冻截面抛光仪

物联网截面抛光仪诞生！

截面抛光仪CP是为电子显微镜制备截面样品的仪器。因为用离子束进行制样，与其他制样方法如机械抛光相比，可以在短时间内制备出高质量截面。

新GUI界面和物联网（IoT）的引入进一步提高了操作的简便性；高效离子源和冷却系统能够快速、低损伤地制备出光滑截面。

   主要特点                                                                                                                                          

1.   新GUI界面和物联网（IoT） ~人性化和远程控制~  

    采用新GUI界面，操作步骤容易理解。

    按照控制面板上的流程图轻松操作。

    预设功能可用于保存和找回针对特定应用或样品类型的工艺条件。

       与局域网连接，通过web浏览器对CP进行远程访问和控制，可以对多个CP进行监控和调整刻蚀工艺。

2.   高效离子源  

    通过优化离子源电极和提高加速电压，提升了离子电流强度。 标准截面刻蚀速率达到1,200 μm/h*。

      样品：硅晶片   离子能量：10 keV, 刻蚀时间：1小时

3.   制备高效冷却系统  ~自动冷却和自动返回室温~  

     自动进行冷却和返回室温。 另外，可以从CP这边围绕液氮箱抽真空，以确保冷却保留时间和样品的冷却温度。

    在-120°C下，可以连续刻蚀8小时。

    控制冷却温度，并通过冷却导体的反复连接/缩回来减少液氮消耗。

    可以在液氮环境下更换样品。